Irgendwann muß es hier gegen den Markttrend nach oben gehen!
28.06.2006 (13:54)
SÜSS MicroTec: SAIT (Samsung Advanced Institute of Technology) ordert Mask Aligner für die Herstellung von MEMS- und Display-Bauteilen
München, 28. Juni 2006 – SÜSS MicroTec (News/Kurs/Chart/Board) hat einen Auftrag für einen Mask Aligner "MA200Compact" vom SAIT (Samsungs zentrale Forschungs- und Entwicklungsorganisation in Korea) erhalten. SAIT wird den SÜSS Mask Aligner sowohl in diversen Forschungs- und Entwicklungsprojekten also auch in der Herstellung von MEMS (Mikro-Elekto-Mechanische-Systeme)- und Display-Bauteilen einsetzen.
"In den letzten Jahren hat sich SAIT zum wichtigsten Technologietreiber hinter der weltweiten Samsung-Organisation entwickelt" erklärt J.S. Kim, Senior Engineer bei SAIT. "Damit wir die hohen Qualitätsanforderungen, die an SAIT gestellt werden, auch erfüllen können, sind wir auf eine äußerst zuverlässige Ausrüstung angewiesen. Um die unterschiedlichsten Märkte und Anwendungen erfolgreich bedienen zu können, muss unser Equipment nicht nur hochpräzise und zuverlässig arbeiten, sondern auch eine attraktive Cost of Ownership aufweisen. Der MA200 Compact von SÜSS MicroTec erfüllt unsere hohen Ansprüche voll und ganz. Neben einer exzellenten Prozessfähigkeit für viele unterschiedliche Fotolacke weist dieser Mask Aligner eine erstaunliche Justiergenauigkeit auf.“
Mit einer Justiergenauigkeit von unter 0,5 Mikrometer und einer Durchlaufleistung von mehr als 100 Wafer pro Stunde repräsentiert der MA200Compact die nächste Generation der SÜSS Vollfeld-Belichtungssysteme für die Massenproduktion mit den unterschiedlichsten Einsatzgebieten – angefangen bei der Mikrosystemtechnik über die moderne Chipverbindung "Advanced Packaging" bis zur Optoelektronik und Telekommunikation. Bei Bedarf kann der MA200Compact zusätzlich mit kundenspezifischen Handling-Einrichtungen ausgerüstet werden, so dass sich auch nicht normgerechte, z.B. zerbrechliche, krumme, gebohrte und dünne, Trägermaterialien sowie Glas und Folien bearbeiten lassen. Durch seine besonderen Belichtungs- und Optiksysteme, lassen sich zudem Streulichteffekte komplett unterdrücken und es wird eine ungewöhnliche hohe Tiefenschärfe erzielt. So erreicht man sogar bei Wafern mit hohen Topographieunterschieden eine sehr gute Ausbeute.
Über SÜSS MicroTec:
SÜSS MicroTec ist einer der weltweit führenden Hersteller von Fertigungs- und Prüfsystemen für die Halbleiterindustrie. SÜSS MicroTec behauptet seine Marktführerschaft mit über 8.000 weltweit installierten Systemen. Die Produktpalette von SÜSS MicroTec umfasst Beschichtungs-/Entwicklungssysteme (Coater/Developer), 1x Full-Field-Lithographiesysteme (Mask Aligner), Substrat Bonder, Device Bonder und Probe Systeme. SÜSS MicroTec mit Hauptsitz in München produziert an 5 internationalen Standorten und unterstützt Kunden mit Vertriebs- und Servicezentren in Nordamerika, Europa, Asien und Japan. Weitere Informationen zu SÜSS MicroTec finden Sie unter
www.suss.de. Über Samsung Advanced Institute of Technology (SAIT):
SAIT ist die zentrale Forschungs- und Entwicklungsorganisation der Samsung Gruppe. Sie wurde 1987 als Ideenschmiede für künftige Spitzentechnologien gegründet. SAIT entdeckt fortlaufend neue, revolutionäre Technologien sowie neue Anwendungsgebiete und Märkte. SAIT entwickelt die Technologien von morgen. Weiter Informationen über SAIT erhalten Sie unter
http://www.sait.samsung.co.kr/eng/main.jsp