von mindestens 7 Anlagen erhalten, das ist auf Monatsbasis ein Rekordergebnis. Die Auftragstendenz ist stark steigend.
2001 wurde die Firma mit einem KGV von über 200 bewertet. Würde sie heute mit einem KGV von 20 bewertet, entspräche das in 2007 bei gleichen operativem Ergebnis einem Kurs von € 9.-. € 5,50 sind da eher eine Unterbewertung.
AIXTRON erhält Bestellung über drei CRIUS-Anlagen
Aachen, 21. August 2007 – AIXTRON AG hat im zweiten Quartal 2007 erneut einen Auftrag von EpiValley Co., Ltd in Kwangju City, Süd Korea erhalten. EpiValley, ein langjähriger Kunde der AIXTRON AG, bestellte drei weitere Thomas Swan, Close Coupled Showerhead (CCS) Produktionsanlagen. Mit diesen drei CRIUS-Systemen mit jeweils einer Reaktorkapazität von 30 x 2-Zoll-Wafern stellt das Unternehmen Galliumnitrid basierende Epitaxiescheiben her, aus denen die so genannten „Side View“-LEDs gefertigt werden.
EpiValleys Vorstand Dr. D. J. Park erklärt deren Kaufentscheidung: „Wir waren mit der ersten Thomas Swan (CCS CRIUS) MOCVD*-Anlage sehr zufrieden, da diese innerhalb kurzer Zeit sowohl installiert worden war als auch im Produktionsbetrieb Epitaxiescheiben lieferte. Da unsere Kunden derzeit ihre Produktion der „Side View“-LEDs aufstocken, müssen wir unseren Durchsatz an Wafern ebenfalls erhöhen. Aus diesem Grund haben wir drei weitere Anlagen bestellt. Mit den insgesamt vier CRIUS-Anlagen werden wir in der Lage sein, den hohen Volumen-Anforderungen des Marktes für LED-Hintergrundbeleuchtung und Beleuchtung in Hinsicht auf Leistung und Preis gerecht zu werden.
EpiValley stellt Wafer für blau-, grün- und ultraviolett-leuchtende Chips und fertige LEDs her und ist AIXTRONs erster Kunde, der die neue CRIUS-Anlage bestellt hatte. CRIUS stellt eine der weltweit leistungsstärksten MOCVD-Systeme für die Produktion von Galliumnitrid-LEDs dar. EpiValley gehört weltweit zu den ersten Firmen, die blaue ultrahelle LED-Wafer mit der CRIUS-Anlage herstellen, worüber AIXTRON bereits im Mai berichtete.
AIXTRON erhält Auftrag über mehrere Genus CVD-Anlagen vom führenden IC-Hersteller in Taiwan
Aachen – 14. August 2007 – AIXTRON AG erhielt eine Bestellung über mehrere 300 mm CVD LYNX-iXP-Systeme des neuesten Typs. Mit diesen Anlagen erweitert der Kunde relativ rasch seine Kapazitäten in der Produktionsstätte, die er vor kurzem für Bauelemente mit Strukturgrößen kleiner 70 nm in Taiwan aufgebaut hat. Die Lieferung der Anlagen wird im Laufe des dritten Quartals 2007 erfolgen.
„Der Kunde hat sich für die Genus LYNX-iXP-Anlagen entschieden, weil sie sich mit ihren geringen Betriebskosten, der langen Betriebszeit und Zuverlässigkeit in der Produktion von 300 mm Wafern (für DRAM*-Chips) im Markt bewährt haben. Die Systeme werden zunächst mit dem Prozess für Strukturgrößen von 70 nm in Betrieb genommen, doch laut Plan sollen sie kurzfristig auf die 55 nm-Technologie umgestellt werden. Unser Kunde suchte unter anderem einen technisch innovativen Anbieter, der in kürzester Zeit seine komplexen Anforderungen erfüllen konnte“, erklärt Shams Tabrez, Vertriebsleiter für die Siliziumhalbleiter-Technologie der AIXTRON.
Kunden profitieren von AIXTRONs Niederlassung in Taiwan, da sie kundenspezifischen Service vor Ort erhalten und das Team auf individuelle Anforderungen speziell eingehen kann. Unter diesen Voraussetzungen möchte AIXTRON seinen Kundenstamm im taiwanischen Siliziummarkt erweitern.
In der Siliziumindustrie sind es hauptsächlich die großen Chiphersteller von Speicherbausteinen (DRAM und FLASH**), die die Genus CVD-Anlagen einsetzen. Für den Beschichtungsprozess mit Wolframsilizid (WSix), mit dem die Speicherbausteine überwiegend hergestellt werden, hat sich das patentierte, mit einem Wafer bestückte LYNX-iXP-Kammerkonzept durchgesetzt. Zusammen mit den AIXTRON ALD- und AVD-Systemen bildet die Genus CVD-Plattform für Wolframsilizid ein umfassendes Portfolio an Anlagen für die Halbleiterindustrie. Die Genus CVD- und ALD-Anlagen beruhen auf der gleichen Plattform und haben ein einheitliches Design, um die Handhabung und den Service zu vereinfachen. Diese Merkmale tragen wesentlich zu den geringen Betriebskosten bei. Dadurch können die Anlagen auch einfach an mehrere Technologie-Entwicklungsschritte angepasst werden - ein ausschlaggebendes Kriterium für die Kunden im kostengetriebenen Datenspeicher-Markt. |
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