DGAP-News: Obducat erhält weiteres Schlüsselpatent in Europa
Obducat AB / Produkteinführung/Rechtssache
18.08.2006
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Obducat erhält weiteres Schlüsselpatent in Europa Malmö, 18. August 2006 - Obducat AB, weltweit führender Entwickler und Anbieter von Technologien zur Herstellung und Reproduktion von Nanostrukturen anhand der sog. Nano Imprint Lithography NIL und der E-Beam Lithography, erhält weiteres grundlegendes Patent für seine Antihaft-Technologie. Diese Technologie stellt einen wichtigen Bestandteil der NIL-Technologie dar, welche die Massenproduktion von Strukturen im Nanobereich ermöglicht.
Obducats patentierte Antihaft-Technologie ist Teil von Obducats Massenfertigungs-Lösungen (High Volume Manufacturing HVM) die auf der NIL-Technologie beruhen. Die Antihaft-Ausrüstung der Nanostempel ermöglicht einen Hochgeschwindigkeits-Entformungsprozess und gewährleistet eine längere Haltbarkeit des Stempels. Diese Eigenschaften sind Voraussetzung für die Hohe Qualität der Obducat Produktionslösungen.
Weiter begründet die Antihaft-Ausrüstung einen Kostenvorteil gegenüber den herkömmlichen Verfahren, u.a. aufgrund der längeren Lebensdauer und Einsetzbarkeit des Stempels speziell bei Hochtemperatur-Anwendungen.
"Unsere Antihaft-Technologie ist eine der wichtigsten Eigenschaften, die zur überlegenen Leistung und Kosteneffizienz unserer NIL-Systemlösung für die Massenproduktion beitragen," so Patrik Lundström, CEO von Obducat AB. "Die aktuelle Erteilung vieler Patente in wichtigen Märkten stärkt unsere Position in unseren Absatzmärkten weiter, was wir als sehr positiv erachten."
Weitere Informationen: Patrik Lundström, CEO, +46 (40) 36 21 00 oder +46 (703) 27 37 38 Henri Bergstrand, Chairman of the Board, +46 (40) 36 21 00 oder +46 (708) 88 72 45 |